PL—DW200等离子清洗机|亲水性处理等离子清洗机

PL—DW200等离子清洗机清洗成本低廉，操作比较灵活，主要适用于高新技术产品。真空

等离子清洗机可选择40KHz、13.56MHz和2.45GHz三种射频发生器，更好的满足客户需求。

          等离子清洗机原理

       等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下有第四种状态存在，如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。

       利用高压放电，通过等离子体轰击产品表面，从而到达清洗的目的。

       PL—DW200等离子清洗机采用人机界面控制，操作起来更加方便简单，直观效果更明显。

采用不锈钢腔体，可根据用户要求配置频率，功率，电源

  PL—DW200等离子清洗机

  不锈钢舱体：400mm×400mm×650mm

·         容量：200 升

·         处理过程：分手动与自动控制

·         功率：500W

·         电源：AC380V

·         射频电源：主频40KHz